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橢偏儀

北京歐屹科技有限公司
會員指數(shù): 企業(yè)認證:

價格:電議

所在地:北京

型號:

更新時間:2022-03-01

瀏覽次數(shù):3288

公司地址:北京市昌平區(qū)回龍觀西大街115號龍冠大廈3樓

王新波(先生)  

產(chǎn)品簡介

橢偏儀為一種光學系膜厚測量裝置,這個裝置的特點是可以測量1nm一下的薄膜,也適合測量玻璃等透明基板上的薄膜。ME-210-T 活用了本公司特有的偏光Senor 技術(shù),將不能變?yōu)榭赡?,以往的技術(shù)是無法測量0.5mm厚的玻璃基板,在這項技術(shù)下,可進行薄膜的測量,舉例來說顯示器用的ITO膜或配向膜的評估,也可運

公司簡介



歐屹科技,是以激光、光電儀器、電子封裝設(shè)備為核心業(yè)務的專業(yè)代理經(jīng)銷商和服務商,歐屹科技以多年的行業(yè)經(jīng)驗,
為客戶引進國內(nèi)外先進的激光器、光電器件、光電儀器、光電系統(tǒng)、電子封裝設(shè)備等高精尖儀器設(shè)備
其中高功率半導體激光器,微光學透鏡,劃片機,
應力雙折射測試儀尤其受到客戶的贊許。
另外,歐屹科技以專業(yè)的技術(shù)支持和售后服務;豐富國際貿(mào)易經(jīng)驗為廣大用戶提供廣泛的支持,
我們正盡最大努力把歐屹科技建設(shè)成為值得您信賴的公司
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產(chǎn)品說明

高速Mapping橢偏儀(適用透明基板)ME-210-T

橢偏儀適用透明基板的高速Mapping橢偏儀 ···可測量透明基板上的光阻膜及配向膜分布


橢偏儀,膜厚測量儀,光學膜厚測量儀橢偏儀為一種光學系膜厚測量裝置,膜厚測量儀這個裝置的特點是可以測量1nm一下的薄膜,也適合測量玻璃等透明基板上的薄膜。

ME-210-T  活用了本公司特有的偏光Senor 技術(shù),將不能變?yōu)榭赡埽酝募夹g(shù)是無法測量0.5mm厚的玻璃基板,在這項技術(shù)下,可進行薄膜的測量,舉例來說顯示器用的ITO膜或配向膜的評估,也可運用ME-210-T  輕松達成。

ME-210-T的膜厚分布資料,膜厚測量儀定會對的薄膜產(chǎn)品的生產(chǎn)有大的用途。


ME-210-T膜厚測量儀的特點

1,   的測量速度(每分約1000點:)可短時間內(nèi)取得高密度的面分布數(shù)據(jù)。

2,   微小領(lǐng)域量測(20un左右)可簡單鎖定&測量任一微小區(qū)域。


3,   可測量透明基板

適用于解析玻璃基板上的薄膜


膜厚測量儀的測量實例

涂布膜邊緣擴大測量

可階段性擴大微小領(lǐng)域,然后獲得詳細的膜厚分布數(shù)據(jù)


GaAs Wafer 上酸化膜厚的分布測量

縮小膜厚顯示范圍,膜厚差距不大的樣品,也可以簡單評估、比較其分布狀況


膜厚測量儀的設(shè)備參數(shù)

項目

規(guī)格

光源

半導體激光(636nm、class2)

zui小測量領(lǐng)域

廣域模式:0.5mm×0.5mm

高精細模式:5.5um×5.5um

入射角

70『deg』

測量再現(xiàn)性

膜厚:0.1nm 折射率:0.001     ※1

zui大測量速度

1000point/min(廣域模式)

5000point/min(高模式)

載物臺

行程:XY200mm以上

zui大移動速度:約40mm/scc

尺寸/重量

約650×650×1740mm(W×D×H)/約200kg

電源

AC100V

備注

※1:此數(shù)值是以廣域模式測量SiO2膜(膜厚約100mm)其中一點,重復測量100次后的標準偏差值


本頁產(chǎn)品地址:http://m.bhxfsw.cn/sell/show-7586598.html
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