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2016款橢圓偏振光測厚儀

河北慧采科技有限公司

會員指數(shù)：

企業(yè)認(rèn)證：

價格：電議

所在地：河北邢臺市

型號：2016款

更新時間：2017-07-07

瀏覽次數(shù)：15737

公司地址：河北省邢臺市橋東區(qū)唐寧10號

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產(chǎn)品簡介

廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結(jié)構(gòu)橢圓偏振光測厚儀

公司簡介

河北潤創(chuàng)科技開發(fā)有限公司是一家致力于儀器儀表設(shè)備的大型企業(yè)，解決您東拼西湊的煩惱，為您打造一站式采購平臺，

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我們擁有強(qiáng)大的科研研發(fā)人員，及完善的售后服務(wù)體系。奉行“誠信、務(wù)實(shí)、開拓、創(chuàng)新”的企業(yè)信念，在客戶中樹立了

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備及配套的相關(guān)技術(shù)工人，可根據(jù)用戶的需要，為用戶設(shè)計(jì)各種專用設(shè)備，可以滿足，建筑，鐵道，水電，交通，礦山等單位

不同工程實(shí)際情況；除此外，我廠擁有一支具備專業(yè)能力的隊(duì)伍，可以對外承攬技術(shù)咨詢服務(wù)。

我們竭誠歡迎全國各界朋友、專家和領(lǐng)導(dǎo)來我廠洽談業(yè)務(wù)，光臨指導(dǎo)。我們將以一流的產(chǎn)品，一流的服務(wù)，十分的誠意和

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產(chǎn)品說明

產(chǎn)品簡介: ESS03是針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量領(lǐng)域推出的波長掃描式多入射角光譜橢偏儀，此系列儀器的波長范圍覆蓋紫外、可見、近紅外、到遠(yuǎn)紅外。 ESS03采用寬光譜光源結(jié)合掃描單色儀的方式實(shí)現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量。 ESS03系列多入射角光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，膜層厚度、表面微粗糙度等）和光學(xué)參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k、復(fù)介電常數(shù)ε等），也可用于測量塊狀材料的光學(xué)參數(shù)。 ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。技術(shù)特點(diǎn)：寬的光譜范圍采用寬光譜光源、寬光譜掃描德系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)，保證了儀器在寬的光譜范圍下都具有高準(zhǔn)確度，非常適合于對光譜范圍要求其嚴(yán)格的場合。靈活的測量設(shè)置儀器的多個關(guān)鍵參數(shù)可根據(jù)要求而設(shè)定（包括：波長范圍、掃描步距、入射角度等），大地提高了測量的靈活性，可以勝任要求苛刻的樣品。原子層量級的檢測靈敏度的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的設(shè)計(jì)和制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級地納米薄膜，膜厚精度達(dá)到0.05nm。非常經(jīng)濟(jì)的技術(shù)方案采用較經(jīng)濟(jì)的寬光譜光源結(jié)合掃描單色儀的方式實(shí)現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量，儀器整體成本得到有效降低。應(yīng)用領(lǐng)域： ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。 ESS03適合很大范圍的材料種類，包括對介質(zhì)材料、聚合物、半導(dǎo)體、金屬等的實(shí)時和非實(shí)時檢測，光譜范圍覆蓋半導(dǎo)體地臨界點(diǎn)，這對于測量和控制合成的半導(dǎo)體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）。 ESS03可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。薄膜相關(guān)應(yīng)用涉及物理、化學(xué)、信息、環(huán)保等，典型應(yīng)用如：半導(dǎo)體：如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）；平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；生物和化學(xué)工程：有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處

廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結(jié)構(gòu)多種型號圖片


型號:JX200090EX2自動橢圓偏振測厚儀	型號:JX200096EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀	型號:JX200100ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀

【溫馨提示】
本公司產(chǎn)品因產(chǎn)品種類繁多，詳細(xì)配置價格請致電咨詢！
[邢臺秦星科技有限公司]——是集科研、開發(fā)、制造、經(jīng)營于一體，的工程試驗(yàn)儀器專業(yè)制造實(shí)體。公司主要經(jīng)營砼混凝土儀器,水泥試驗(yàn)儀器,砂漿試驗(yàn)儀器,泥漿試驗(yàn)儀器,土工試驗(yàn)儀器,瀝青試驗(yàn)儀器,公路集料儀器,防水材料儀器,公路巖石儀器,路面試驗(yàn)儀器,壓力試驗(yàn)機(jī)養(yǎng)護(hù)室儀器及實(shí)驗(yàn)室耗材等上百種產(chǎn)品。在以雄厚的技術(shù)底蘊(yùn)在強(qiáng)化開發(fā)的同時，積采用外技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，尋求推進(jìn)與大專院校，科研單位的協(xié)作互補(bǔ)，以實(shí)現(xiàn)新產(chǎn)品開發(fā)的高起點(diǎn)，在交通部、建設(shè)部及科研所們的指導(dǎo)下，產(chǎn)品不斷完善，不斷更新。已廣泛用于建材，建筑施工，道橋建設(shè)，水電工程和機(jī)械，交通、石油、化工等領(lǐng)域的質(zhì)量檢測。并同外各試驗(yàn)儀器廠建立了長期合作關(guān)系，嚴(yán)把質(zhì)量關(guān)，價格更優(yōu)惠！公司擁有現(xiàn)代化鋼構(gòu)倉庫4000多平方米，并配備業(yè)內(nèi)的裝備設(shè)施，車輛出入方便，倉庫管理實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)化、化管理，確保儀器設(shè)備不斷貨。眾多眾多知名試驗(yàn)儀器及測量、測繪電子廠家直供，外一線知名儀器品牌匯聚于此，更是眾多新品上線網(wǎng)購平臺的之地。服務(wù)隊(duì)伍專業(yè)快捷服務(wù)，完善的呼叫中心服務(wù)體系，：[牛經(jīng)理]迅速解決客戶問題，專業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)。潤聯(lián)為您提供詳細(xì)的產(chǎn)品價格、產(chǎn)品圖片等產(chǎn)品介紹信息，您可以直接聯(lián)系廠家獲取產(chǎn)品的具體資料，聯(lián)系時請說明是在潤聯(lián)看到的，并告知型號
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廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結(jié)構(gòu)

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【廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結(jié)構(gòu)一共有★★30★★多種型號以上只顯示1-3種型號，如沒有合適您的產(chǎn)品請咨詢邢臺秦星科技有限公司】

廊坊橢圓偏振光測厚儀光譜式橢偏儀以及常見的結(jié)構(gòu)多種型號內(nèi)容

型號:JX200090EX2自動橢圓偏振測厚儀

EX2自動橢圓偏振測厚儀是基于消光法（或稱“零橢偏”）橢偏測量原理，針對納米薄膜厚度測量領(lǐng)域推出的一款自動測量型教學(xué)儀器。
EX2儀器適用于納米薄膜的厚度測量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。
EX2儀器還可用于同時測量塊狀材料（如，金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)）的折射率n和消光系數(shù)k。
特點(diǎn)
經(jīng)典消光法橢偏測量原理
儀器采用消光法橢偏測量原理，易于理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
采用水平放置樣品的方式，方便樣品的取放。
緊湊的一體化結(jié)構(gòu)
集成一體化設(shè)計(jì)，簡潔的儀器外形通過USB接口與計(jì)算機(jī)相連，方便使用。
高準(zhǔn)確性的激光光源
采用激光作為探測光波，測量波長準(zhǔn)確度高。
豐富實(shí)用的樣品測量功能
可測量納米薄膜的膜厚和折射率；塊狀材料的復(fù)折射率、樣品反射率、樣品透過率。
便捷的自動化操作
儀器軟件可自動完成樣品測量，并可進(jìn)行方便的測量數(shù)據(jù)分析、儀器校準(zhǔn)等操作。
安全的用戶使用權(quán)限管理
軟件中設(shè)置了用戶使用權(quán)限（包括：管理員、等模式），便于儀器管理和使用。
可擴(kuò)展的儀器功能
利用本儀器，可通過適當(dāng)擴(kuò)展，完成多項(xiàng)偏振測量實(shí)驗(yàn)，如馬呂斯定律實(shí)驗(yàn)、旋光測量實(shí)、旋光等。
應(yīng)用
EX2適合于教學(xué)中單層納米薄膜的薄膜厚度測量，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。
EX2可測量的樣品涉及微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領(lǐng)域。

技術(shù)指標(biāo)

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
儀器型號	EX2
測量方式	自動測量
樣品放置方式	水平放置
光源	He-Ne激光器，波長632.8nm
膜厚測量重復(fù)性*	0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層)
膜厚范圍	透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)
折射率范圍	1.3 – 10
探測光束直徑	Φ2-3mm
入射角度	30°-90°，精度0.05°
偏振器方位角讀數(shù)范圍	0-360°
偏振器步進(jìn)角	0.014°
樣品方位調(diào)整	Z軸高度調(diào)節(jié)：16mm 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4°
允許樣品尺寸	樣品直徑可達(dá)Φ160mm
配套軟件	* 用戶權(quán)限設(shè)置 * 多種測量模式選擇 * 多個測量項(xiàng)目選擇 * 方便的數(shù)據(jù)分析、計(jì)算、輸入輸出
外形尺寸	約400400250mm
儀器重量（凈重）	約20Kg
選配件	* 半導(dǎo)體激光器

注：(1)測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
性能保證
ISO9001質(zhì)量體系下的儀器質(zhì)量保證
專業(yè)的橢偏測量原理課程
專業(yè)的儀器使用培訓(xùn)

欄目頁面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光譜橢偏儀
來源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200090.html
EX2自動橢圓偏振測厚儀
型號:JX200096EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀

EM13LD 系列是采用量拓科技的測量技術(shù)，針對普通精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的多入射角激光橢偏儀。
EM13LD系列采用半導(dǎo)體激光器作為光源，可在單入射角度或多入射角度下對樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測量?？捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實(shí)時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的厚度測量。
EM13LD系列采用了量拓科技多項(xiàng)。
特點(diǎn)：
次納米的高靈敏度
的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測量薄納米薄膜，膜厚精度可達(dá)到0.5nm。
3秒的快速測量
水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證精度和準(zhǔn)確度的同時，可在3秒內(nèi)快速完成一次測量，可對納米膜層生長過程進(jìn)行測量。
簡單方便的儀器操作
用戶只需一個按鈕即可完成復(fù)雜的材料測量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進(jìn)行測量設(shè)置。
應(yīng)用：
EM13LD系列適合于普通精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
EM13LD系列可用于測量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實(shí)時測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
EM13LD可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等?？蓱?yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。
技術(shù)指標(biāo):

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
儀器型號	EM13 LD/635 (或其它選定波長)
激光波長	635 nm (或其它選定波長，高穩(wěn)定半導(dǎo)體激光器)
膜厚測量重復(fù)性（1）	0.5nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
折射率測量重復(fù)性（1）	5x10-3 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
單次測量時間	與測量設(shè)置相關(guān)，典型3s
的膜層范圍	透明薄膜可達(dá)1000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)
光學(xué)結(jié)構(gòu)	PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有高的準(zhǔn)確度）
激光光束直徑	2mm
入射角度	40°-90°可手動調(diào)節(jié)，步進(jìn)5°
樣品方位調(diào)整	Z軸高度調(diào)節(jié)：±6.5mm 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° 樣品對準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對準(zhǔn)系統(tǒng)
樣品臺尺寸	平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm
外形尺寸	887 x 332 x 552mm (入射角為90º時)
儀器重量（凈重）	25Kg
選配件	水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺，真空吸附泵
軟件(ETEM)	* 中英文界面可選 * 多個預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用 * 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合 * 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 * 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持

注：(1)測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
性能保證:
穩(wěn)定性的半導(dǎo)體激光光源、的采樣方法，保證了穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度
的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng)，保證了快速、的樣品方位對準(zhǔn)
穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對準(zhǔn)，結(jié)合的采樣技術(shù)，保證了快速、穩(wěn)定測量
分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和厚度的測量
一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使得系統(tǒng)操作簡單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間
一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫，方便用戶使用
可選配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
樣品池

欄目頁面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光譜橢偏儀
來源網(wǎng)址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200096.html
EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀
型號:JX200100ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀

ESS03是針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量領(lǐng)域推出的波長掃描式多入射角光譜橢偏儀，此系列儀器的波長范圍覆蓋紫外、可見、近紅外、到遠(yuǎn)紅外。
ESS03采用寬光譜光源結(jié)合掃描單色儀的方式實(shí)現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量。
ESS03系列多入射角光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，膜層厚度、表面微粗糙度等）和光學(xué)參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k、復(fù)介電常數(shù)ε等），也可用于測量塊狀材料的光學(xué)參數(shù)。
ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。
技術(shù)特點(diǎn)：
寬的光譜范圍
采用寬光譜光源、寬光譜掃描德系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)，保證了儀器在寬的光譜范圍下都具有高準(zhǔn)確度，非常適合于對光譜范圍要求其嚴(yán)格的場合。
靈活的測量設(shè)置
儀器的多個關(guān)鍵參數(shù)可根據(jù)要求而設(shè)定（包括：波長范圍、掃描步距、入射角度等），大地提高了測量的靈活性，可以勝任要求苛刻的樣品。
原子層量級的檢測靈敏度
的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的設(shè)計(jì)和制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級地納米薄膜，膜厚精度達(dá)到0.05nm。
非常經(jīng)濟(jì)的技術(shù)方案
采用較經(jīng)濟(jì)的寬光譜光源結(jié)合掃描單色儀的方式實(shí)現(xiàn)高光譜分辨的橢偏測量，儀器整體成本得到有效降低。
應(yīng)用領(lǐng)域：
ESS03系列多入射角光譜橢偏儀尤其適合科研中的新品研發(fā)。
ESS03適合很大范圍的材料種類，包括對介質(zhì)材料、聚合物、半導(dǎo)體、金屬等的實(shí)時和非實(shí)時檢測，光譜范圍覆蓋半導(dǎo)體地臨界點(diǎn)，這對于測量和控制合成的半導(dǎo)體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）。
ESS03可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。
薄膜相關(guān)應(yīng)用涉及物理、化學(xué)、信息、環(huán)保等，典型應(yīng)用如：
半導(dǎo)體：如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）；
平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；
生物和化學(xué)工程：有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等。
節(jié)能環(huán)保領(lǐng)域：LOW-E玻璃等。
ESS03系列也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。典型應(yīng)用包括：
玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。

技術(shù)指標(biāo)：

項(xiàng)目	技術(shù)指標(biāo)
光譜范圍	ESS03VI：370-1700nm ESS03UI：245-1700nm
光譜分辨率（nm）	可設(shè)置
入射角度	40°-90°手動調(diào)節(jié)，步距5，重復(fù)性0.02
準(zhǔn)確度	δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° （透射模式測空氣時）
膜厚測量重復(fù)性（1）	0.05nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
折射率n測量重復(fù)性（1）	0.001 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
單次測量時間	典型0.6s / Wavelength / Point（取決于測量模式）
光學(xué)結(jié)構(gòu)	PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有高的準(zhǔn)確度）
可測量樣品尺寸	直徑200 mm
樣品方位調(diào)整	高度調(diào)節(jié)范圍：10mm
樣品方位調(diào)整	二維俯仰調(diào)節(jié)：±4°
樣品對準(zhǔn)	光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對準(zhǔn)系統(tǒng)
軟件	•多語言界面切換
	•預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用
	•安全的權(quán)限管理模式（管理員、操作員）
	•方便的材料數(shù)據(jù)庫以及多種色散模型庫
	•豐富的模型數(shù)據(jù)庫
選配件	自動掃描樣品臺聚焦透鏡

注：(1)測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
可選配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標(biāo)片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
樣品池

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光譜橢偏儀
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ESS03 波長掃描式多入射角光譜橢偏儀

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