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價(jià)格:電議
所在地:北京
型號(hào):GR/HI 84100
更新時(shí)間:2021-06-11
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公司地址:北京市朝陽(yáng)區(qū)三間房西柳村中街
高經(jīng)理(女士)
北京微電腦二氧化硫滴定分析儀
型號(hào):GR/HI 84100
北京微電腦二氧化硫滴定分析儀采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。
北京微電腦二氧化硫滴定分析儀
?基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電測(cè)量于一體
?性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單,可直接顯示測(cè)量結(jié)果
?人性化設(shè)計(jì),具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
?殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
?通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
?當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時(shí),即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
型號(hào) |
HI 84100 |
滴定范圍 |
0 to 400 ppm of SO2 |
滴定方法 |
等電位氧化還原滴定法 |
滴定精度 |
讀數(shù)的5% |
取樣量 |
50 mL |
ORP電 |
HI 3148B |
供電方式 |
220V/60 Hz;10VA |
使用環(huán)境 |
0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95% |
尺寸重量 |
208×214×163 mm;2200 g |
采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。
?基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電測(cè)量于一體
?性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單,可直接顯示測(cè)量結(jié)果
?人性化設(shè)計(jì),具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
?殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
?通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
?當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時(shí),即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
型號(hào) |
HI 84100 |
滴定范圍 |
0 to 400 ppm of SO2 |
滴定方法 |
等電位氧化還原滴定法 |
滴定精度 |
讀數(shù)的5% |
取樣量 |
50 mL |
ORP電 |
HI 3148B |
供電方式 |
220V/60 Hz;10VA |
使用環(huán)境 |
0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95% |
尺寸重量 |
208×214×163 mm;2200 g |
采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。
?基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電測(cè)量于一體
?性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單,可直接顯示測(cè)量結(jié)果
?人性化設(shè)計(jì),具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
?殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
?通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
?當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時(shí),即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
型號(hào) |
HI 84100 |
滴定范圍 |
0 to 400 ppm of SO2 |
滴定方法 |
等電位氧化還原滴定法 |
滴定精度 |
讀數(shù)的5% |
取樣量 |
50 mL |
ORP電 |
HI 3148B |
供電方式 |
220V/60 Hz;10VA |
使用環(huán)境 |
0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95% |
尺寸重量 |
208×214×163 mm;2200 g |
采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。
?基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電測(cè)量于一體
?性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單,可直接顯示測(cè)量結(jié)果
?人性化設(shè)計(jì),具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
?殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
?通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
?當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時(shí),即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
型號(hào) |
HI 84100 |
滴定范圍 |
0 to 400 ppm of SO2 |
滴定方法 |
等電位氧化還原滴定法 |
滴定精度 |
讀數(shù)的5% |
取樣量 |
50 mL |
ORP電 |
HI 3148B |
供電方式 |
220V/60 Hz;10VA |
使用環(huán)境 |
0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95% |
尺寸重量 |
208×214×163 mm;2200 g |